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半导体设备 Semiconductor

SC3080A

12英寸单片洗濯设备

SC3080A 12英寸单片洗濯设备

SC3080A 12 Inch Single Wafer Clean Tool

用于集成电路、先进封装、新兴利用等领域12英寸后段洗濯工艺。不变的传输系统保险高效工艺产出；精密的腔室设计支持高效的化学品回收效能；可建设伯努利卡盘，有效；ぞг舱。

设备特点

产品利用

晶圆尺寸
12英寸
合用资料
单晶硅、多晶硅、氧化硅、氮化硅、介质膜、金属膜
合用工艺
后段Cu/Al 造程刻蚀后洗濯、Al Pad 洗濯、背面洗濯、背面刻蚀，后段控挡片回收
合用领域
集成电路，先进封装、新兴利用

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