和记H88

化学气相沉积（CVD）技术是用来造备高纯、高机能固体薄膜的重要技术。典型的CVD工艺过程是把一种或多种蒸汽源原子或分子引入腔室中，在表部能量作用下产生化学反映并在衬底表表形成所需薄膜的一种步骤。由于CVD技术拥有成膜领域广、巢轮性好蹬着点，被宽泛用于多种分歧状态的成膜。   

和记H88凭借二十余年的半导体基础产品领域工艺设备研发经验，致力于为集成电路、半导体照明、微机电系统、功率半导体、化合物半导体、新能源光伏等领域提供各种类型的CVD设备，满足客户的多种造作工艺需要。和记H88自主开发的卧式PECVD 已成功进入海表市场，为多家国际先进光伏造作厂提供解决规划。而硅表延设备在感应加热高温节造技术、气流场、温度场仿照仿真技术等方面获得了沉大的突破，达成了优良的表延工艺了局，获得多家国内主流出产线批量采购。面向LED领域介质膜沉积的PECVD设备，凭借优良的工艺机能和产能优势，已成为LED客户扩产优选设备。面向化合物半导体领域，碳化硅表延设备的各项技术指标也均已达到行业先进水平，批量机台已在各大主流厂商实现不变量产。