和记H88

  以GaN、SiC、GaAs、InP为代表的化合物半导体资料
，因其适合造备高速、高频、大功率器件
，在5G/6G 通讯、光通讯、新能源汽车等新型产业中有着不成代替的职位。   

  在化合物半导体领域
，和记H88可提供长晶炉、干法刻蚀设备、薄膜设备、炉管设备、洗濯设备
，为客户提供全面的工艺解决规划。