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公司名称：
业务联系人：康兴
Pallas A220 碳化硅急剧热退火系统
Pallas A220 SiC Single Wafer Rapid Thermal Anneal System
Pallas A220 重要用于8英寸及以下急剧热退火工艺。该机台选取急剧热处置的成熟技术，通过灯管加热实现对晶圆在极短的功夫内升温到高温，通过多温区节造实现温场均匀，用于离子注入后扩散激活退火蹬爪用。
设备特点
怪异的加热分区设计，具备优良的温度均匀性
高精度的控温模式
更优的升温速度
产品利用
晶圆尺寸
6/8英寸兼容
合用资料
碳化硅
合用工艺
急剧热退火
合用领域
化合物半导体、科研
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