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物理气相沉积工艺设备

物理气相沉积技术是指在真空前提下，选取物理步骤，将资料源表表转化成原子、分子或部门电离成离子，并通过低压气体(或等离子体)过程，在基体表表沉积拥有某种特殊职能的薄膜的技术。PVD设备使得镀膜厚度及均匀性可控，且造备的薄膜致密性好、粘结力强及纯净度高，现已宽泛利用于电子、光学、机械、构筑、轻工、冶金、资料等各类工业领域，可造备拥有耐磨、耐侵蚀、导电、绝缘、光导、压电、磁性、光滑、超导等个性的膜层，该技术已经成为造备各类职能薄膜的沉要伎俩。和记H88凭借在大尺寸平面和旋转阴极设计、磁场仿真开发、平衡与非平衡磁控溅射、阴极电弧源、离子源表表刻蚀和辅助沉积等多项关键技术的堆集创新，现已有陆续式磁控镀膜设备、柔性基材卷绕镀膜设备、单体复合型真空镀膜设备。产品覆盖锂电复合集流体、磁性资料稀土扩渗层、柔性通明导电层以及医疗器械和汽车零部件等工件表表职能层的造备，可为锂电、光伏、氢能等新能源行业，以及医疗、消费器件、汽车零部件等其他工业领域，提供真空镀膜设备及技术开发服务。

复合集流体行业

Composite collector fluid Industry

CRJM/CZRJM Series

真空卷绕PVD镀膜设备

氢能行业

Hydrogen Energy Industry

磁性资料行业

Magnetic materials Industry

CWP1200/1800

卧式陆续型PVD镀膜设备

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