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8英寸等离子体介质刻蚀机
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公司名称：
业务联系人：国唯唯
NMC 508系列 8英寸等离子体介质刻蚀机
NMC 508系列 Dielectric Etcher
介质刻蚀机属于电容耦合等离子体干法刻蚀机（CCP设备），合用于6/8英寸介质层刻蚀工艺 。该机台为多腔室集群设备，可能进行全自动并行工艺处置 。前后路选取分歧频率，实现工艺全覆盖；前路刻蚀速度快，描摹节造优；后路副产品节造优，MTBC长，CoC低 。宽泛利用于8寸IC、功率器件、化合物半导体等领域 。
设备特点
可实现6/8英寸切换
多频解耦合设计，前后路工艺全覆盖
怪异的射再三率设计，高刻蚀速度，高选择比
选取Clean Mode 量产，前路、后路均具备优异的量产不变性，更长的守护保养周期
产品利用
晶圆尺寸
6、8英寸
合用领域
集成电路IC，功率器件，化合物半导体，新兴利用
合用资料
SiO?、SiNx、SiON
适应工艺
前路HM、CT、Spacer等，后路Via、PAD等
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