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业务联系人：杨雄
GSE C200 多职能刻蚀机
GSE C200 Multi-functional Etcher
多职能刻蚀机选取选取高密度等离子体源 ，刻蚀速度高、均匀性好 ，颗＝谠炷芰τ乓 ，易守护 ，机能不变。在SAW滤波、传感器件的造备等方面机能优异 ，具备急剧导产的能力。同时工艺的兼容性高 ，可刻蚀介质、金属、化合物等多种资料 ，在科延注高校、新兴领域的利用极度宽泛。
设备特点
怪异的等离子体源设计 ，保障优良的刻蚀均匀性
矫捷的系统配置 ，适合研发、中试线、大规模出产线的分歧利用
可提供研发所需的丰硕的工艺数据库支持
低CoO和CoC
产品利用
晶圆尺寸
8英寸及以下
合用领域
化合物半导体、科延注新兴利用
合用资料
硅、氧化硅、氮化硅、氮化镓、金属、有机物等
合用工艺
多种资料刻蚀工艺
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