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GDE C200系列

化合物刻蚀机

GDE C200系列化合物刻蚀机

GDE C200系列 Compound Semiconductor Etcher

化合物刻蚀机选取超高密度等立体源，刻蚀速度高、均匀性好，机能不变，MTBC长，易守护，在SiC-Power、GaAs-RF、GaN-RF、滤波器、Optic等领域利用宽泛，已在多条产线验证成功，堆集了丰硕的经验，在集成电路、化合物领域、新兴、科研等领域的利用极度宽泛。

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