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公司名称：
业务联系人：张渤
Orion Proxima 高密度等离子体化学气相沉积系统
Orion Proxima HDPCVD System
Orion Proxima 产品是一款高密度等离子体化学气相沉积设备，合用于集成电路、功率半导体等领域，可实现对12英寸晶圆的全自动化工艺处置。该系统选取尺度化的传输系统和？榛墓ひ涨皇疑杓，配置矫捷、工艺窗口宽、职能集成度高，各项工艺技术指标均达到国际先进水平。
设备特点
优越的填孔能力以及高沉积速度
怪异的温度场和ICP电磁场设计保障了低温高致密的膜质阐发
优化机台结构，缩幼占地面积
敦睦的人机交互和安全性设计保险系统不变、安全、高效
产品利用
晶圆尺寸
12英寸
沉积资料
氧化硅
合用工艺
浅沟槽隔离、金属间介质层、钝化层
合用领域
集成电路
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