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公司名称：
业务联系人：单思
3120G 12英寸前路通用化学品单片洗濯设备
3120G 12 lnch Front-end general chemical Single Wafer Clean Tool
重要用于集成电路领域12英寸前段洗濯工艺，选取堆叠式架构及多片式传输系统，占地幼、产能高 ；选取热异丙醇（IPA）干燥技术，实现优良的干燥成效 ？帕Ｈコ⒆吭，跻身国内一流水平 。
设备特点
12 腔室堆叠平台，较高产能，最幼占地面积
双面洗濯，最多支持5 种化学品
较高化学品回收效能，较低客户使用成本
平台全系产品可配置常温、高温IPA 干燥技术，适配先进工艺和深邃宽比图形
齐全自主知识产权
产品利用
晶圆尺寸
12英寸
合用资料
单晶硅、多晶硅、氧化硅、金属膜
合用工艺
扩散/ 沉积前洗濯，氧化物刻蚀洗濯，刻蚀/ 化学研磨后洗濯，金属膜刻蚀洗濯
合用领域
集成电路
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