Esther/Eris系列 8英寸单片常压/减压硅表延系统
Esther/Eris系列 8 Inch Single Wafer Atmospheric
Pressure / Reduced Pressure Silicon Epitaxy System
Esther/Eris 系列为单片常/减压式硅表延设备，合用于6/8英寸的硅表延工艺。Esther系列可能实现常压及减压前提下硅基资料的表延成长，并利用红表加热系统将工艺腔室承片基盘（石墨基座）温度不变在特定温度领域内，共同高均匀度的气体流量节造，实现晶圆规格6/8英寸、硅基表延层成长的硅基资料化学气相表延及精确可调N型、P型掺杂。该设备智能化人机交互设计与高效的安全互锁保险了系统安全和不变。
