Hesper E230A 12英寸单片常压硅表延系统
Hesper E230A 12 Inch Single Wafer Atmospheric Pressure Silicon Epitaxy System
Hesper E230A 为单片双腔常压硅表延设备，重要用于12英寸硅表延工艺。该机台可能实现从薄膜表延的厚膜表延的兼容。通过红表灯分区加热系统和温控系统，能够实现温场的精准节造；并共同独创的进气结构，使得表延过程流场和温场均匀性较优，获得优异的工艺指标，达到行业先进水平。
- 设备特点
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- 产品利用
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- 晶圆尺寸
- 合用资料
- 合用工艺
- 合用领域
