Hesper I E430R 12英寸单片减压硅表延系统
Hesper I E430R 12 Inch Single Wafer Reduced Pressure
Silicon Epitaxy System
Hesper I E430R 为单片四腔减压硅表延设备，重要用于12英寸薄膜硅表延工艺和填槽工艺。该产品占有先进的控温控压系统，怪异的流场设计，实现对温度的精准节造，整个表延工艺过程中温场和气流场均匀不变，可获得优异的工艺指标。该设备智能化人机交互设计与高效的安全互锁保险了系统安全和不变。
- 设备特点
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- 产品利用
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- 晶圆尺寸
- 合用资料
- 合用工艺
- 合用领域
