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ACE I300(V)
12英寸等离子体干法去胶机
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公司名称：
业务联系人：王志伟
ACE I300(V) 12英寸等离子体干法去胶机
ACE I300(V) High Selectivity Etcher
ACE I300(V)重要用于8/12英寸光刻胶干法刻蚀。该机台为twins腔设计 ，选取高效离子过滤装置及多气体系统 ，可实现刻蚀后去胶、高能离子注入后去胶、硬掩模去除、残胶去除、表表处置等 ，并最大水平降低等离子体造成的底层资料危险。配置3腔平台及智能算法系统 ，满足大产能量产需要。
设备特点
高密度等离子体源系统 ，实现更高去胶速度
Twin stage怪异的流场和热场设计 ，均一性更优
智能算法系统 ，提供高传输效能和腔室利用率
多款Grid配置 ，适应更多工艺利用
低运行成本和低运营成本
产品利用
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