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ACE E300Ge
12英寸等离子体高选择比刻蚀机
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公司名称：
业务联系人：佀昊
ACE E300Ge 12英寸等离子体高选择比刻蚀机
ACE E300Ge High Selectivity Etcher
ACE E300Ge占有高密度低危险的等离子源装置，以及超高过滤效能的离子过滤装置，为走向3D结构和更深邃宽比的先进存储造程提供革命性的表表处置解决规划，以及高选择比、高精度的金属硬掩膜层刻蚀利用。
设备特点
先进的等离子节造技术，确保优异均匀性
等离子密度和能量的独立节造
超高离子过滤效能，精准调控反映能量
更高刻蚀选择比，刻蚀资料宽泛
产品利用
晶圆尺寸
12英寸
合用领域
集成电路
合用资料
硅、氧化硅、氮化硅、氮化钛
合用工艺
表表处置, TiN/W等HM高选择比刻蚀
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